ファウンドリサービスとは
8インチ 装置管理用テストウエハから
MEMSを中心に各種デバイスのプロセス設計・開発・量産まで
お客様の多様なニーズを幅広くサポートします
サービス内容
- ○MEMSをはじめ各種デバイスの「試作」・「量産」
- ○プロセス設計サポート/開発支援/マスクデザインサポート
- ○装置管理用テストウエハ製造
成膜評価/CMP評価/バンプ・ワイヤーボンディング評価/各種テストサンプル用に
MMIセミコンダクターがファウンドリに選ばれる理由
対応力 試作から量産化までワンストップ
ウエハ工程の試作から量産までワンストップで対応
スピード立ち上げに貢献します
- ○少量・多品種のニーズにも柔軟に対応
- ○試作のみでもOK
- ○見積・提案スピードにも定評
技術力・信頼性 多種多様な製品の試作・量産実績
多種多様な製品の試作・量産実績が証明
- ○MEMSセンサ(圧力センサ、加速度センサ、流量センサ、赤外線センサ、音響センサ など)
- ○MEMSアクチュエータ(マイクロミラー、RF MEMS など)
- ○各種半導体(IC、パワーデバイス など)
- ○光学素子(アパーチャ、光導波路 など)
- ○機能構造(貫通加工、DRIE特殊加工 など)
プロセス設計サポート プロセス設計からサポート
プロセス設計からでもフルサポート
- ○20年を超える豊富なMEMS開発・生産実績をもとに、
プロセス設計から参画・サポートが可能。
品質管理
”豊富な経験”と”高度な管理力”で確かな製品をお届けしています
- ○ISO9001(品質管理)*1 / ISO14001(環境管理)*2 の認証取得
- ○断面SEM・EDX・FIB・断面研磨などの解析技術を保有
*1:登録組織名称 ミツミ電機株式会社 半導体事業部 *2:登録組織名称 ミツミ電機株式会社
技術例
-
DRIE特殊加工
(先端突起形状) -
DRIE特殊加工
(Y字加工) -
DRIE円柱加工
-
IC多層配線技術
-
高アスペクト加工、微細パターン加工
(シリコンエッチング、絶縁膜エッチング) -
MEMS技術
(中空構造) -
厚膜酸化膜
(プラズマCVD) -
DRIE特殊加工
(二段エッチング) -
シリコン精密加工
(例:シリコンリング) -
三次元解析技術
-
DRIE処理後のスムージング処理
その他 POLY-Siダマシン構造・貫通加工(ストレートホール, 2段加工, テーパー加工など)
対応プロセス・保有装置
使用可能な設備とプロセスをご紹介します
プロセス
8′ IC/MEMS工程(クラス1)
8′ MEMS工程(クラス10)
露光
4X/5X i線 ステッパー
4X KrF スキャナー
4X KrF スキャナー
5X i線 ステッパー
1X i線 アライナー(裏面アライメント対応)
1X i線 アライナー(裏面アライメント対応)
塗布/現像
スピンコーター(レジスト、ポリイミド)
パドルデベロッパー
スプレーデベロッパー(PSPI)
パドルデベロッパー
スプレーデベロッパー(PSPI)
スピンコーター
マニュアルコーター
パドルデベロッパー
マニュアルコーター
パドルデベロッパー
イオン注入
中電流(B+, BF2+, P+, As+, Ar+)
高電流(B+, BF2+, P+, As+, Ar+)
高エネルギー(B+, BF2+, P+, Ar+)
高電流(B+, BF2+, P+, As+, Ar+)
高エネルギー(B+, BF2+, P+, Ar+)
ー
ドライエッチ
RIE(SiO2, SiN, Al, poly-Si,W)
O2 アッシュ
O2 アッシュ
RIE(SiO2, SiN)
DRIE(Si)
Vapor HF
O2 アッシュ
DRIE(Si)
Vapor HF
O2 アッシュ
ウェットエッチ/
洗浄
洗浄
ウェットエッチ(SiO2, SiN,Al)
レジストストリップ
SC1洗浄、SC2洗浄
レジストストリップ
SC1洗浄、SC2洗浄
ウェットエッチ(SiO2, Si(TMAH), Au, Cr, Ti)
レジストストリップ
リフトオフ
レジストストリップ
リフトオフ
成膜
スパッタ(AlCu, AlSi,W, Ti, TiN)
PCVD(SiN, SiO2, BPSG, PSG, a-Si)
LPCVD(SiO2, SiN, poly-Si, doped poly-Si)
Metal CVD(W)
PCVD(SiN, SiO2, BPSG, PSG, a-Si)
LPCVD(SiO2, SiN, poly-Si, doped poly-Si)
Metal CVD(W)
スパッタ(Au, Cr, Ti, Al, Pt, Ta2O5 など)
PCVD(SiO2)
蒸着(Al,Au, Sn, Cr, Ti, Ni など)
PCVD(SiO2)
蒸着(Al,Au, Sn, Cr, Ti, Ni など)
酸化/アニール
酸化炉(Dry/Wet SiO2)
V-Furnace, RTP, H2アニール
Cleanroom Oven
V-Furnace, RTP, H2アニール
Cleanroom Oven
Cleanroom Oven
検査/測定
AOI, REVIEW SEM
CD SEM, 重ね合わせ測定装置,金属顕微鏡,
レーザー顕微鏡,ウエハ欠陥検査装置,
膜厚測定装置,反り測定装置,段差測定装置
CD SEM, 重ね合わせ測定装置,金属顕微鏡,
レーザー顕微鏡,ウエハ欠陥検査装置,
膜厚測定装置,反り測定装置,段差測定装置
AOI, 金属顕微鏡,
IR顕微鏡, OPT Profiler,ウエハ欠陥検査装置,
膜厚測定装置,反り測定装置,段差測定装置
IR顕微鏡, OPT Profiler,ウエハ欠陥検査装置,
膜厚測定装置,反り測定装置,段差測定装置
ダイシング/研削
CMP(SiO2, poly-Si, W)
BSG and Polish
BSG and Polish
ステルスダイサー・エキスパンダー
ブレードダイサー
2流体洗浄
ブレードダイサー
2流体洗浄
接合
ー
常温接合(Si-Si, Si-SiO2, Metal-Metal)
共晶接合(Au/Sn)
Fusion接合(Si-SiO2) ※外注
共晶接合(Au/Sn)
Fusion接合(Si-SiO2) ※外注
その他
MASK作製サポート、TXRF