プロセス
8′ IC/MEMS工程(クラス1)
8′ MEMS工程(クラス10)
露光
4X/5X i線 ステッパー
4X KrF スキャナー
5X i線 ステッパー
1X i線 アライナー(裏面アライメント対応)
塗布/現像
スピンコーター(レジスト、ポリイミド)
パドルデベロッパー
スプレーデベロッパー(PSPI)
スピンコーター
マニュアルコーター
パドルデベロッパー
イオン注入
中電流(B+, BF2+, P+, As+, Ar+)
高電流(B+, BF2+, P+, As+, Ar+)
高エネルギー(B+, BF2+, P+, Ar+)
ー
ドライエッチ
RIE(SiO2, SiN, Al, poly-Si,W)
O2 アッシュ
RIE(SiO2, SiN)
DRIE(Si)
Vapor HF
O2 アッシュ
ウェットエッチ/
洗浄
ウェットエッチ(SiO2, SiN,Al)
レジストストリップ
SC1洗浄、SC2洗浄
ウェットエッチ(SiO2, Si(TMAH), Au, Cr, Ti)
レジストストリップ
リフトオフ
成膜
スパッタ(AlCu, AlSi,W, Ti, TiN)
PCVD(SiN, SiO2, BPSG, PSG, a-Si)
LPCVD(SiO2, SiN, poly-Si, doped poly-Si)
Metal CVD(W)
スパッタ(Au, Cr, Ti, Al, Pt, Ta2O5 など)
PCVD(SiO2)
蒸着(Al,Au, Sn, Cr, Ti, Ni など)
酸化/アニール
酸化炉(Dry/Wet SiO2)
V-Furnace, RTP, H2アニール
Cleanroom Oven
Cleanroom Oven
検査/測定
AOI, REVIEW SEM
CD SEM, 重ね合わせ測定装置,金属顕微鏡,
レーザー顕微鏡,ウエハ欠陥検査装置,
膜厚測定装置,反り測定装置,段差測定装置
AOI, 金属顕微鏡,
IR顕微鏡, OPT Profiler,ウエハ欠陥検査装置,
膜厚測定装置,反り測定装置,段差測定装置
ダイシング/研削
CMP(SiO2, poly-Si, W)
BSG and Polish
ステルスダイサー・エキスパンダー
ブレードダイサー
2流体洗浄
接合
ー
常温接合(Si-Si, Si-SiO2, Metal-Metal)
共晶接合(Au/Sn)
Fusion接合(Si-SiO2) ※外注
その他
MASK作製サポート、TXRF